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泉意光(guang)罩是一家以高(gao)階光(guang)罩研發生產(chan)為(wei)主(zhu)的高(gao)端制造型企業。

光罩(zhao)（Mask，Photomask）又稱光掩模版，是(shi)在制作芯(xin)(xin)片時作為芯(xin)(xin)片電(dian)路圖的(de)底(di)片以供光刻機制作IC芯(xin)(xin)片的(de)一種光學元件，是(shi)IC芯(xin)(xin)片從設計(ji)到成品的(de)關(guan)鍵環(huan)節。

目(mu)前泉意(yi)光(guang)(guang)罩(zhao)有員工170余人，光(guang)(guang)罩(zhao)技術團隊來(lai)自臺灣和大陸著(zhu)名集(ji)成電路企業。公司擁(yong)有全球最(zui)尖(jian)端(duan)(duan)的EUV光(guang)(guang)罩(zhao)寫入機，也是國內(nei)僅(jin)有的幾(ji)臺高(gao)階EUV光(guang)(guang)罩(zhao)寫入機，其最(zui)高(gao)制程可達7nm。廠區(qu)位于濟南市(shi)高(gao)新(xin)區(qu)臨空經濟開發區(qu)航天大道(dao)東端(duan)(duan)。

公司以7-12nm制(zhi)程(cheng)IC芯片用高階(jie)光(guang)罩為主(zhu)要(yao)目標，致力于成為國(guo)(guo)內一流，國(guo)(guo)際知名的(de)高階(jie)光(guang)罩生產企業(ye)。