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泉意光罩是(shi)一家以(yi)高階光罩研(yan)發生產為主的(de)高端(duan)制造型企(qi)業。

光(guang)罩(zhao)（Mask，Photomask）又稱光(guang)掩(yan)模版，是在(zai)制作芯片(pian)(pian)時(shi)作為(wei)芯片(pian)(pian)電路圖的底片(pian)(pian)以(yi)供光(guang)刻機制作IC芯片(pian)(pian)的一種光(guang)學元件，是IC芯片(pian)(pian)從設(she)計到成品的關鍵環節。

目前泉意光(guang)罩有(you)員工170余人，光(guang)罩技術團(tuan)隊來自(zi)臺灣和大陸著名(ming)集成電路企業。公司擁有(you)全(quan)球最(zui)尖(jian)端的EUV光(guang)罩寫入(ru)機(ji)，也是國內(nei)僅(jin)有(you)的幾(ji)臺高(gao)(gao)階EUV光(guang)罩寫入(ru)機(ji)，其最(zui)高(gao)(gao)制程可達7nm。廠區位于濟南市高(gao)(gao)新區臨空經(jing)濟開發區航天大道東端。

公司以7-12nm制程IC芯片(pian)用(yong)高(gao)階(jie)光(guang)罩為主(zhu)要目標，致力于成為國(guo)(guo)內(nei)一流，國(guo)(guo)際知名的高(gao)階(jie)光(guang)罩生產企業。