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泉(quan)意光罩是一家以高階光罩研發生(sheng)產為主的高端制造型企業(ye)。

光罩（Mask，Photomask）又稱光掩模(mo)版，是(shi)(shi)在制作芯片(pian)時作為芯片(pian)電路圖(tu)的底片(pian)以(yi)供光刻機(ji)制作IC芯片(pian)的一種光學元(yuan)件，是(shi)(shi)IC芯片(pian)從設計(ji)到成品(pin)的關鍵環節。

目前泉意光(guang)罩(zhao)有(you)員(yuan)工170余人，光(guang)罩(zhao)技術團隊來自(zi)臺(tai)灣和大(da)陸著名(ming)集成電路企業。公司擁(yong)有(you)全球(qiu)最尖(jian)端(duan)(duan)的(de)EUV光(guang)罩(zhao)寫入(ru)機，也是國內僅有(you)的(de)幾臺(tai)高階(jie)EUV光(guang)罩(zhao)寫入(ru)機，其最高制程可達(da)7nm。廠(chang)區(qu)位于濟(ji)南(nan)市高新(xin)區(qu)臨空經(jing)濟(ji)開(kai)發區(qu)航天大(da)道東端(duan)(duan)。

公司以7-12nm制程IC芯片用高(gao)階(jie)光罩(zhao)為主(zhu)要目標，致力于(yu)成為國內(nei)一流，國際知名(ming)的(de)高(gao)階(jie)光罩(zhao)生產企業。