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泉(quan)意光(guang)罩是一家以(yi)高階光(guang)罩研發生產(chan)為主的高端制造型企業。

光罩（Mask，Photomask）又稱光掩(yan)模版，是(shi)在(zai)制作芯片時作為芯片電路圖的(de)底片以供光刻機制作IC芯片的(de)一(yi)種光學元件，是(shi)IC芯片從設計(ji)到成品的(de)關鍵環節。

目前泉(quan)意光(guang)罩(zhao)有員工170余人，光(guang)罩(zhao)技術團隊來自臺灣和大陸著名集成電路企業(ye)。公司擁有全球(qiu)最尖端的EUV光(guang)罩(zhao)寫(xie)(xie)入機，也是(shi)國內僅有的幾臺高(gao)階EUV光(guang)罩(zhao)寫(xie)(xie)入機，其最高(gao)制程可達7nm。廠區(qu)位于(yu)濟(ji)南(nan)市高(gao)新區(qu)臨空經濟(ji)開發區(qu)航天大道東端。

公司以(yi)7-12nm制程IC芯片用高(gao)階光罩為主要目標，致力于(yu)成為國內(nei)一(yi)流(liu)，國際知名(ming)的高(gao)階光罩生產企業。